【48812】三井化学将量产光刻薄膜新品支撑ASML下一代光刻机
日前，日本三井化学宣告将在其岩国大竹工厂建立碳纳米管 (CNT) 薄膜生产线，开端量产半导体最顶级的零部件产品（维护半导体电路原版的薄膜资料“Pellicle”的新一代产品）。
据悉，此种CNT薄膜能完成92%以上的高EUV透射率和超越1kW曝光输出功率的光阻才能。三井化学预期年产才能为5000张，生产线月竣工，可为ASML将推出的下一代高数值孔径、高输出EUV光刻机供给支撑。
日前，日本三井化学宣告将在其岩国大竹工厂建立碳纳米管 (CNT) 薄膜生产线，开端量产半导体最顶级的零部件产品（维护半导体电路原版的薄膜资料“Pellicle”的新一代产品）。
据悉，此种CNT薄膜能完成92%以上的高EUV透射率和超越1kW曝光输出功率的光阻才能。三井化学预期年产才能为5000张，生产线月竣工，可为ASML将推出的下一代高数值孔径、高输出EUV光刻机供给支撑。