比利时微电子研讨中心 （imec） 携手日本化工及极紫外光 （EUV） 光罩护膜大厂三井化学一起宣告，为了推进针对极紫外光 （EUV） 微影使用的纳米碳管 （CNT） 曝光薄膜技能商业化，两边正式创立战略同伴关系。

  imec表明，此次协作，三井化学将把imec依据纳米碳管所研制的立异光罩护膜技能，集成至三井化学的曝光薄膜技能，方针是完成可以全面投产的标准，估计将在2025-2026年导入高功率的极紫外光 （EUV） 体系。此次签约于2023 SEMICON Japan日本世界半导体展期间在东京进行。

  imec着重，此战略同伴关系旨在一起开发曝光薄膜及极紫外光 （EUV） 光罩护膜，由imec供给技能咨询与极紫外光 （EUV） 曝光机测验，三井化学进行商用出产。这些光罩护膜被规划用来维护光罩在极紫外光 （EUV） 曝光时免受污染，不只具有很高的极紫外光 （EUV） 穿透率 （≧94%） 和极低的极紫外光 （EUV） 反射率，对曝光的影响也能操控到最小，这些都是要让先进半导体制作到达高良率和高产量所需的要害功能。这些纳米碳管 （CNT） 光罩护膜乃至还能接受超越1kW等级的极紫外光 （EUV） 输出功率，有助于开展新时代 （高于600W） 的极紫外光源技能。于量产导入极紫外光 （EUV） 微影技能的厂商对这些功能发生浓厚兴趣。因而，此次协作的两边将携手开发可供商用的纳米碳管 （CNT） 光罩护膜技能，以满意市场需求。

  imec先进图形化制程与资料研讨方案的资深副总Steven Scheer表明，在帮忙半导体生态系开展新时代微影技能方面，imec具有多年经历。从2015年开端，咱们与整个供应链的同伴们创立了协作，为先进的极紫外光 （EUV） 微影技能开发纳米碳管 （CNT） 光罩护膜的立异规划。咱们有决心在丈量、特征化、纳米碳管 （CNT） 薄膜特性和功能方面咱们所把握的深度常识将能加快三井化学的产品研讨开发。经过协作，咱们我们都期望能为新时代极紫外光 （EUV） 微影技能推进纳米碳管 （CNT） 光罩护膜的出产。”

  imec进一步指出，在此微影技能开展蓝图下，新式光罩薄膜估计于2025-2026年推出，到时艾司摩尔 （ASML） 开发的新一代0.33数值孔径 （NA） 微影体系也将能支撑输出功率超越600W的曝光源。此开发进程攸关2纳米以下逻辑芯片技能的导入。