12月23日音讯，据日本新闻媒体报道，比利时微电子研讨中心（imec）携手日本化工及极紫外光（EUV）光罩维护膜大厂三井化学一起宣告，为了推进针对EUV光刻的碳纳米管（CNT）光罩维护膜技能商业化，两边正式树立战略同伴关系。

  据了解，光罩维护膜是一种薄膜，可维护EUV光罩外表免受空气中微分子或污染物的影响，这关于 5nm或以下节点制程的先进制程技能的良率体现至关重要。别的，光罩维护膜也是一种需求定时替换的消耗品，而因为 EUV光刻设备的光源波长较短，因而维护膜需求较薄厚度来添加透光率。现在光罩维护膜首要供货商是荷兰ASML，日本三井化学、信越化学，韩国SS Tech、FST等。

  imec表明，此次协作，三井化学将把imec依据碳纳米管所研制的立异光罩维护膜技能，整合至三井化学的光罩维护膜技能，方针是完成可以全面投产的标准，估计将在2025~2026年导入高功率的极紫外光（EUV）体系。此次签约于2023 SEMICON Japan日本世界半导体展期间在东京进行。

  imec着重，两边的战略同伴关系旨在一起开发曝光薄膜及EUV光罩维护膜，其间将由imec供给技能咨询与EUV光刻机测验，三井化学进行商用出产。这些光罩护膜被规划用来维护光罩在EUV曝光时免受污染，不只具有很高的EUV穿透率（≧94%）和极低的EUV反射率，对曝光的影响也能操控到最小，这些都是要让先进半导体制作到达高良率和高产量所需的要害功能。这些碳纳米管（CNT）光罩维护膜乃至还能接受超越1kW等级的极紫外光（EUV）输出功率，有助于开展新一代（高于600W）的极紫外光源技能。将在量产导入EUV光刻技能的厂商对这些功能发生浓厚兴趣。因而，此次协作的两边将携手开发可供商用的碳纳米管（CNT）光罩维护膜技能，以满意市场需求。

  imec先进图形化制程与资料研讨方案的资深副总Steven Scheer表明：“在帮忙半导体生态系开展新代代微影技能方面，imec具有多年经历。从2015年开端，咱们与整个供应链的同伴们树立了协作，为先进的EUV光刻技能开发碳纳米管（CNT）光罩维护膜的立异规划。咱们有决心在丈量、特征化、碳纳米管（CNT）薄膜特性和功能方面，咱们所把握的深度常识将能加快三井化学的产品研讨开发。经过协作，咱们我们都期望能为新一代EUV光刻技能推进碳纳米管（CNT）光罩维护膜的出产。”

  imec进一步指出，在此光刻技能开展蓝图下，新式光罩维护膜估计于2025~2026年推出，到时ASML开发的新一代0.33数值孔径（NA）光刻体系也将能支撑输出功率超越600W的曝光源。