6月18日音讯，日本化工大厂三井化学日前宣告，将开端量产EUV光罩维护膜（pellicles），可支撑ASML将推出的下一代具有超越600W光源功率的EUV光刻机。为此，三井化学计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置出产线张，出产线月竣工。

　　据了解，光罩维护膜是一种薄膜，可维护光罩外表免受空气中微分子或污染物的影响，这关于 5nm或以下节点制程的先进制程技能的良率体现至关重要。别的，光罩维护膜也是一种需求定时替换的消耗品，而因为 EUV光刻设备的光源波长较短，因而针对EUV的维护膜需求较薄的厚度来添加透光率。现在光罩维护膜首要供货商是荷兰ASML，日本三井化学、信越化学，韩国S&S Tech、FST等。

　　三井化学的光罩维护膜事务来自于2022年5月27日关于旭化成的半导体和LCD制作工艺中光掩膜薄膜事务的收买，收买价格约74亿日元（约人民币3.83亿元）。

　　值得注意的是，2023年12月，三井化学与比利时微电子研究中心（imec）一起宣告，为了推进针对EUV光刻的碳纳米管（CNT）光罩维护膜技能商业化，两边正式树立战略伙伴关系。

　　imec着重，两边的战略伙伴关系旨在一起开发曝光薄膜及EUV光罩维护膜，其间将由imec供给技能咨询与EUV光刻机测验，三井化学进行商用出产。这些光罩护膜被规划用来维护光罩在EUV曝光时免受污染，不只具有很高的EUV穿透率（≧94%）和极低的EUV反射率，对曝光的影响也能操控到最小，这些都是要让先进半导体制作到达高良率和高产量所需的要害功能。这些碳纳米管（CNT）光罩维护膜乃至还能接受超越1kW等级的极紫外光（EUV）输出功率，有助于开展新一代（高于600W）的极紫外光源技能。将在量产导入EUV光刻技能的厂商对这些功能发生浓厚兴趣。因而，此次协作的两边将携手开发可供商用的碳纳米管（CNT）光罩维护膜技能，以满意市场需求。

　　imec进一步指出，在此光刻技能开展蓝图下，新式光罩维护膜估计于2025~2026年推出，到时ASML开发的新一代0.33数值孔径（NA）EUV光刻体系也将能支撑输出功率超越600W的曝光源。

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