日本三井化学日前宣告，行将开端量产用于最顶级光刻机的光掩模防护膜新品，以应对顶级半导体需求的增加。三井化学计划在山口县岩国大竹工厂内设置出产线，出产该公司“Pellicle”系列最新一代产品，可支撑ASML下一代EUV光刻机。

  据了解，光掩模防尘薄膜（pellicle）用于维护光掩模的清洁，需要高透光率以及长寿命。三井化学2023年与比利时微电子研究中心（imec）协作，将一起推动EUV碳纳米管光掩模薄膜（pellicle）技能商业化。

  该产品估计年出产能力为5000张，出产线月竣工，但三井化学未泄漏出资金额。

  选用碳纳米管（CNT）资料制作的薄膜，与以往产品比较，提高了强度和光的透射率，具有极高的EUV透光率（≥94%）。此外，碳纳米管颗粒还可接受超越1kW的EUV功率，然后满意未来新一代光刻机的需求。

  据了解，三井化学于1984年推出Pellicle光掩模防护膜，全球比例居首；在2022年从竞争对手旭化成获得相关事务后，三井化学简直垄断了这类顶级产品商场。

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